国考1号4·第4套·2024届高三阶段性考试(一)化学答案
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6、2023-2024国考一号3化学
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15.实验室中利用Pb0进行如下实验。下列说法惜误的是稀垫酿HNO,沉淀部分溶解,写出以石是作电极电解饱和C溶液的化学方程式:知档匹,⊙—℃,酸性氯化钥蚀刻液浓乾粮气休GPbC,注液(3)已知D为含氧酸盐,E的水溶液呈黄色。则E溶液与氢碘酸反应时可生成棕色物质,该反应的离子方程式为碱性烛刻液+酸m+→CS05H,0AG为O2。B溶液与D溶液混合的现象为液B.PbO4可写成2Pb0·PbO2H8C.0.3 mol PbO参与疫应,加热过程转移电子的物质的量为0.6mol18.(10分)氮化钛(T,N)为金黄色晶体,仿金效果非微优越,可以作为黄金的替代品。工业上已知:混合时发生的部分反应为Cu(NH)+3H+十C+HOCu(OH)Cl+D.由流程图可知,Pb,O,的氧化性大于C,的氧化性某种以钛铁矿[主要成分为EeT1Q钛酸亚铁),杂质主要为SiO2Mg0等]为原料制备氯化4NHt:CuC-+NH·H2O-Cu(OH)C1¥+NHt+3CI。钛的流程如图所示。题序123456?89101112131415①该流程的滤液中含大量的NH,可加人过斑NaCIO将其处理为Nz,该反应中氧化产过配酸过Fe热水物和还原产物的物质的量之比为答案溪室-图密密[但四*m②滤渣“酸溶”后,制备胆矾的一系列实验操作步骤为」第Ⅱ卷(非选择题共55分)】逃滋A滤澄B过滤、洗涤、干燥。从滤液中回收铜时产生了一种无污染的气体,该步骤发生反应的离子二、非选择题(本题包括5小题,共55分)已知:①钛铁矿与硫酸发生非氧化还原反应。方程式为16.(10分)关于地球的演化,目前主要的观点是,原始地球上没有氧气,在无氧或氧气含壁很低②TiOSO,.遇水会水解。20.(13分)高锰酸钾是一种常用的氧化剂,主要用于化工、防腐及制药工业等。电解法制备商时,原核生物可利用自然存在的有机质(用CH20表示)和某些无机物反应获得能量,其中请回答下列问题:锰酸钾主要是以软锰矿(主要成分为MO2)、碱和氧化剂共熔制坂含K2MnO,.的熔体,再将SO”和MO2可分别作为上述过程的氧化剂发生反应I和Ⅱ,前者生成黄色深浊物,二者(1)滤渣A的化学式为S102K:MnO:氧化为KMnO4,过程如下:均放出无色无味气体.已知反应【为3C迅0+2S6+4H+一2S,3C0+5H,0。80,mL水回答下列问题:②7酸海过程中T0,发生反应的化学方程游o0十2M24三365,十2冰,0叶es袋器一翻-图器(3)乙溶液转化为HTO的离子方程式为(1)每消耗1m!有机质,通过反应1可以产生标准状况下气体的休积为之2L转移的(4)以下金属能够代替Mg还原TiCL的是轮空中e+r·(填字母)。KOH已知:KMO,能将纤维素氧化为草酸盐或二氧化碳。电子数目为2A.Zn(2)反应Ⅱ的离子方程式为B.Na请回答下列问题:C.Al(1)步骤①用铁坩蜗而不用瓷坩埚的原因是步骤(3)约27亿年前,光合作用开始发生,随着这一过程的进行,地球上的氧气不断积累,经过漫长的演变最终达到妞今的含量。氧气的形成和积累导致地球上自然物质的分布发生变(5)TCL→Ti需要在氩气中进行的理由是①中发生反应的化学方程式为19.(12分)2020年9月15日,美国商务部针对华为及其子公司的芯片升级禁令正式生效,正式(2)操作③为“趁热用铺有玻璃布的布氏漏斗进行吸滤,滤液留待地解用”,玻璃布能否用滤纸化,其中溶解在原始海洋(含酸性物质)中的Fε+被氧化转变成针铁[FeO(OH)]而沉替代?断供“华为。蚀刻液广泛应用于半导体和集成电路中不同材质的蚀刻。回答下列阿题_(填“能”或“否”),理由是积,写出该反应的离子方程式:(1)铜制线路板可用FCl溶液蚀刻,写出该反应的离子方程式:(3)将KzMO转化为KMmO的生产工艺除“电解法”外,还可以用“CO2歧化法”,该方法为向o然款理群特酸】(2)在集成电路的制造过程中,刻蚀就是利用化学或物理方法有选择性地从硅片表面去除不KMO,溶液中通入适量CO2,使体系呈中性或弱酸牲,然后KzMn,发生歧化反应生成17.(10分)已知有五种可溶性物质A、BC,D其中A为种常见的二元碱。它们所含的阴、需要的材料的过程。金属铝刻蚀通常用到以下气体:CL2、BC,、Ar、N2、CHF和CzHMmO,和MnO,等物质。则总反应的离子方程式为等。BC,的作用则是将铝表面的氧化层溶解,促进刻蚀过程的继续进行,已知Al2Q与(4)高锰酸钾纯度的测定:称取1.0800g样品,用100mL容址瓶配制成溶液,耀匀。取浓度为阳离子互不相同,具体如下表所示。BCL反应生成BOCl,写出反应的化学方程式:0.200mol·L-的H2C2Q,标准溶液20.00mL,加人稀随酸酸化,用KMn(浒液平行滴定阳离子Na*,Fe+,Cu2+.Ba,A+(3)单晶硅或复晶硅的蚀刻液为硝酸和氢氟酸混合液,蚀刻反应为Si+HNO十6HF一三次,消牦KMO,溶液体积的平均值为25.c0mL。该样品的纯度为(结果保留阴离子C1OHNO5、C0g,0两位有效数字)。H2SiF,十HNO十H2个+H,O。该反应中,还原产物为_(填化学式)。(1)无须检验就可判断物质A为父(典化学式)。另外一种物质B无须检验也可以判(4)一种由酸性氯化铜蚀刻液(主要含CuC好,及少量C*、H*、CI)和碱性蚀刻液[主要断,其水溶液呈不“酸性”、“碱性”或“中性)。含Cu(NH,),及NH时,NH,·HO]回收铜并制备胆矾的方案如下:(2》检验物质C的成分。将C与A的溶液混合时产生蓝色沉淀,向该沉淀中滴人足量稀23十22,全困00所名校高考专项强化卷·化学卷一第4(共6页)【Y】]全团100所名校高考专项强化卷·化学卷一第5页(共6页)【Y]全因100所名校高考专项强化卷·化学卷一第6页(共6顶)【Y】
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